진공 증발 필름은 10-2 Pa 이상의 진공에서 다수의 분자 또는 원자를 증발 또는 승화시키는 것입니다. 증발 물질은 저항 가열 또는 전자 빔 및 레이저 충격에 의해 일정한 온도로 가열되므로 물질 내의 분자 또는 원자의 열 진동 에너지가 표면의 결합 에너지를 초과 한 후, 다수의 분자 또는 원자가 기판 상에 직접 증발 또는 승화 및 증착된다. 필름. 이온 슬러리 도금은 전기장의 작용 하에서 가스 방전에 의해 생성 된 양이온의 높은 반향 운동으로 음극 표적을 충격을가함으로써 표적 물질로부터 원자 또는 분자를 빠져 나가서 도금 된 공작물의 표면에 증착되는 일종의 박막이다. .
진공 증발 코팅은 담낭 가열에 가장 일반적으로 사용되는 방법입니다. 그 장점은 열원의 간단한 구조, 저렴한 비용 및 쉬운 작동입니다. 내화성 금속 및 고온 내성 유전체 재료에는 적합하지 않습니다. 전자 빔 가열 및 레이저 가열은 저항 가열의 단점을 극복 할 수 있습니다. 전자빔 가열에서, 집속 전자빔은 충격을 가한 물질을 직접 가열하는데 사용되고, 전자빔의 운동 에너지는 물질을 증발시키기 위해 열에너지로 변경된다. 레이저 가열은 고출력 레이저를 가열 원으로 사용하지만 고출력 레이저의 고비용으로 인해 현재 일부 연구소에서만 사용할 수 있습니다.
스퍼터링 기술은 진공 증발 기술과 다릅니다. "스퍼터링"은 하전 된 입자가 신체 표면 (표적)에 충격을 가하여 고체 원자 또는 분자가 표면으로부터 방출되는 현상을 지칭한다. 방출 된 입자의 대부분은 원자 상태 (종종 제트 원자라고 함)에 있습니다. 충격을 가하는 표적에 사용되는 스퍼터링 입자는 전자, 지수 또는 중성 입자 일 수있다. 필요한 운동 에너지를 얻기 위해 전기장에서 이온이 가속되기 쉽기 때문에 이온은 충격 입자로 사용되기 때문이다. 스퍼터링 공정은 글로우 방전, 즉 스퍼터링 이온이 모두 가스 방전에 기초한다. 다른 스퍼터링 기술은 다른 글로우 방전 모드를 채택합니다. DC 바이폴라 스퍼터링은 핫 음극에서 지원되는 DC 글로우 방전 트라이 오드 스퍼터링을 기반으로합니다. 무선 주파수 글로우 방전을 기반으로합니다. 마그네트론 스퍼터링은 환형 자기장에 의해 제어되는 글로우 방전을 기반으로합니다.
연락 정보 :
이메일 : mail@refrachina.com
주소 : Suite A2202-03, Qujiang Exhibition International Building, Yanzhan Road, Xi'an,
710061, 중국
전화 : 86-29-85325399
팩스 ： 029-85325610
