스퍼터링 타겟

탄탈륨 표적

1.Material : 순수한 탄탈 . 2. 표준 : ASTM B708 RO5200 . 3. 순도 : ≥99.90 % 또는 99.99 % . 4. 유형 : 원형 표적, 직사각형 표적 .

몰리브덴 타겟

1. 제품명 : 몰리브덴 타겟 . 2. 메 타릴 : 모 . 3. 순도 : 99.9 % . 4. 목표물 : 무게 : ≤200kg / pc, 길이 : ≤Φ165mm × 1000mm

니켈 타겟

1. 제품명 : 니켈 판 / 니켈 타겟 . 2. 순도 : 99.6 %, 99.9 %, 99.99 % . 3. 조건 : 단련 된 또는 unannealed . 4. 응용 : 니켈 판은 PVD (Physical Vapor Deposition) 코팅, 전자 도금의 양극판 및 다른 용도의 부식 방지층에서 스퍼터링 타겟으로 사용될 수 있습니다.

티타늄 대상

1. 물자: 순수한 티타늄 대상. 2.Purity: 99.5%-99.995%. 3.Size: customed. 4.Xi'an 경제학 순수 티타늄 번호판, 바 및 다른 합금의 모든 종류를 제공합니다.

니오브 표적

1. 제품명 : Niobium target . 2. 표준 : ASTM B393 RO4200-1, RO4210-1 . 3. 유형 : 직사각형 타깃 및 원형 타깃 . 4. 순도 : ≥99.90 % 또는 99.95 % . 5. 적용 분야 : 니오브 표적은 장식용 도막 및 냉광 램프 및 선글라스의 광학 필름으로 사용됩니다. .

텅스텐 타겟

1. 제품명 : 텅스텐 타겟 . 2.Shape : 원형 타겟, 회전 가능한 타겟 및 직사각형 타겟 . 3. 크기 : 직경 : 60-200mm, 길이 : 200-1000mm, 간격 : 5-30mm . 4. 표면 : 매끄럽게하는, CNC 기계로 가공, 닦기 .